想用磁控溅射铂但工艺要加热到200度，然后剥离出图形，想问放在里面已经曝光过的片子上的5214胶会失效吗？
这个工艺有点问题：1. 5214不能承受这么高为温度，光刻胶会变型的，导致形态无法满足lift-off需要；2. 这么高的温度下，光刻胶相当于又经过了烘烤，导致光刻胶稳定性提高，lift-off变的更加困难；3. 磁控溅射不适合lift-off工艺。所以，有可能的话，修改镀膜方式为蒸发镀膜，如果厚度很厚的话，建议使用间歇镀膜的方式，防止温度过高导致光刻胶变形。
不能的，虽然早期的产品资料中介绍的热稳定性能达到250℃，但是其工艺温度一般为120℃上线。
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