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这个工艺有点问题:1. 5214不能承受这么高为温度,光刻胶会变型的,导致形态无法满足lift-off需要;2. 这么高的温度下,光刻胶相当于又经过了烘烤,导致光刻胶稳定性提高,lift-off变的更加困难;3. 磁控溅射不适合lift-off工艺。所以,有可能的话,修改镀膜方式为蒸发镀膜,如果厚度很厚的话,建议使用间歇镀膜的方式,防止温度过高导致光刻胶变形。
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