Litho wiki
  • 首页
  • 知识库
  • 论坛
  • 新闻&会议
    • 会议
    • 新闻
  • FAQs
  • 登录

光刻胶论坛

分享 | 互助 | 提高

Litho+wiki 光刻,光刻胶胶知识库/论坛/光刻求助区/显影后光刻胶“漂胶”怎么解决?/回复至:显影后光刻胶“漂胶”怎么解决?

回复至:显影后光刻胶“漂胶”怎么解决?

2年、 6月前 管理员
管理员

如果是偶然发现漂胶,可以从以下角度分析出问题的原因在什么地方?
1. 检查是否是更换某种衬底后或者某种光刻胶后才出现的?如果是,则说明是由于这种光刻胶与当前衬底粘附性不够导致的,建议使用增附剂改善;
2. 检查空气湿度有没有变化,一般来说,正常的空气湿度约为30-50%如果空气湿度过大,光刻胶的粘附性会有较大的影响,当空气湿度大于70%时,不再适合做光刻了;
3. 检查衬底有没有水汽,建议在涂胶前将衬底在150℃下烘烤3min出去水汽

搜索版块

近期话题

  • CD与分辨率
  • 前烘
  • 石墨烯光刻后光刻胶怎么除去?
  • HD4100 PI 负性光刻胶 残胶
  • 光刻胶与曝光

近期回复

  • HD4100 PI 负性光刻胶 残胶
  • 关于负性光刻胶
  • 前烘
  • AZ5214光刻胶能耐200度温度吗
  • 光刻胶的厚度和胶下的电极厚度?
  • 最热话题
  • 没有回复的话题

近期文章

  • 电子束光刻机的分类、现状及发展
  • 纳米压印光刻技术在半导体制造中的兴起
  • 新型原子级光滑硅金字塔表现出非同寻常的磁性特征
  • 石墨烯基混合材料可实现不可见光的高效光转换
  • 研究人员使用基于金刚石的量子系统来控制纳米金刚石

近期评论

  • 管理员发表在《显影 – Development》
  • 韦智强发表在《显影 – Development》
  • 管理员发表在《电子束光刻胶基础》
  • LNwk发表在《电子束光刻胶基础》
  • 管理员发表在《利用LIFT-OFF工艺制作金属电极》

关于我们

Litho+ wiki是一个非盈利网站,主要用于分享光刻及使用光刻胶的基本知识,我们致力于汇集光刻技术及光刻胶使用方面的专业信息,帮助从事相关行业的老师及技术人员能够简单、快速获取相关内容,并为大家创建一个可以分享交流的平台。

我们欢迎更多光刻从业者加入我们,丰富我们的内容,为更多的用户带来新颖的技术手段和使用心得。

标签云

3D微纳结构 DOE lift-off LIGA lor t-gate undercut 充电效应 光引发剂 再吸水 分辨率 刻蚀 剂量 剥离 匀胶 厚胶 去胶 去胶机 图形反转胶 坚膜 增附 对比度 导电胶 干涉光刻 底切 微纳光学 打底胶 无污染 束斑 束流 正胶 气泡 灰度光刻 灵敏度 热回流 电子束光刻 电子束光刻胶 粘度 纳米压印 绝缘衬底 蒸发镀膜 负胶 选择比 食人鱼液 高分辨率

快速导航

  • 首页
  • 知识库
  • 论坛
  • 新闻&会议
    • 会议
    • 新闻
  • FAQs
  • 登录
 © 2020版权所有 prlib & litho+wiki 粤ICP备20030389号-1,网站地图 | 友情链接:ALLRESIST | MICROCHEMICALS | MICRORESIST | MICROCHEM | Showa-denko | ZEON | ScienceDaily | AZOnano | AZOmaterials | Semiengineering | i-Micronews | MEMSnet | BYU-cleanroom | CMi-EPFL | UCSB-nanofab | 中文网站:AR_CN