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本站致力于为光刻胶用户提供免费的光刻胶使用信息和技巧。欢迎您注册成为我们的一员,贡献您的智慧和心得!

               
  • 基础知识 19 Articles

    光刻胶及光刻相关基础知识

    • 导致光刻胶变色的原因有哪些?
    • 紫外曝光 – 光反应过程
    • 光刻胶再吸水
    • 浸涂 – dip coating
    • 电子束光刻 – 曝光剂量
    • 紫外曝光—曝光技术
    • 紫外曝光 —常见曝光光源及剂量确定
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  • 工艺知识 17 Articles

    光刻及光刻胶使用中工艺常识

    • 电子束光刻胶增厚
    • 掩膜版清洗
    • 涂胶时发现衬底(or部分)涂不上胶怎么回事?
    • 食人鱼清洁方法
    • 匀胶“边胶”的产生及改善措施
    • 光刻胶粘附性的特殊情况
    • 喷涂工艺 – spray coating
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  • 光刻应用 10 Articles

    利用光刻手段的应用

    • 电子束灰度光刻实现3D结构的加工
    • PMMA用于晶圆减薄应用
    • LIGA-电铸技术概述
    • 利用灰度光刻制作3D微纳光学图形
    • 电子束光刻制作T型栅中光刻胶的选择
    • 回流工艺做微透镜阵列结构
    • PMMA在二维材料转移中的应用
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  • 优秀光刻胶推荐 6 Articles

    优秀紫外、电子束光刻胶产品介绍

    • nLOF用于电子束负胶
    • PMMA和Copolymer
    • Electra 92电子束曝光导电胶
    • ZEP 520A 高分辨率电子束正胶
    • 超高分辨电子束正胶AR-P 6200(CSAR62)
    • HSQ-超高分辨率电子束负胶
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  • 其他微加工方法 4 Articles

    您可在此找到一些新颖的微加工手段,这些手段不是很常见,但是对于一些特殊的结构或者材料微加工确有着重要的意义。

    • 纳米压印-光刻的补充手段
    • 氧等离子去胶机在微纳加工中的应用
    • 微纳结构PDMS倒模应用
    • 针尖光刻技术
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  • 光刻周边 3 Articles

    您可以在此了解到关于光刻周边的一些技术及方案,虽然不是核心光刻技术,但是这些往往是做好光刻的必要基础技术和条件。在微纳加工中具有重要的作用和意义!

    • 洁净间
    • 氢氧化钾湿法刻蚀
    • 常用材料湿法刻蚀方案
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Knowledge Base Categories

  • 工艺知识
  • 基础知识
  • 其他微加工方法
  • 光刻应用
  • 光刻周边

Knowledge Base Articles

  • 电子束光刻胶增厚
  • PMMA和Copolymer
  • nLOF用于电子束负胶
  • 食人鱼清洁方法
  • 掩膜版清洗

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