资料库

• 导致光刻胶变色的原因有哪些？
• 光刻胶的粘度
• 电子束光刻 – 曝光剂量
• 紫外曝光—曝光技术
• 紫外曝光 – 光反应过程
• 紫外曝光 —常见曝光光源及剂量确定
• 电子束光刻胶基础

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• 匀胶“边胶”的产生及改善措施
• 涂胶时发现衬底（or部分）涂不上胶怎么回事？
• 光刻胶粘附性的特殊情况
• 喷涂工艺 – spray coating
• 匀胶前衬底“增附”处理
• 光刻前衬底如何清洗?
• 光刻胶旋涂曲线

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• 电子束灰度光刻实现3D结构的加工
• PMMA用于晶圆减薄应用
• 利用灰度光刻制作3D微纳光学图形
• LIGA-电铸技术概述
• 回流工艺做微透镜阵列结构
• 电子束光刻制作T型栅中光刻胶的选择
• lift-off工艺中“毛刺”的产生和改善措施

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• Electra 92电子束曝光导电胶
• ZEP 520A 高分辨率电子束正胶
• 超高分辨电子束正胶AR-P 6200(CSAR62)
• HSQ-超高分辨率电子束负胶

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• 氧等离子去胶机在微纳加工中的应用
• 纳米压印-光刻的补充手段
• 微纳结构PDMS倒模应用
• 针尖光刻技术

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• 洁净间
• 氢氧化钾湿法刻蚀
• 常用材料湿法刻蚀方案

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