“边胶”的形成原因和带来的不利影响
光刻胶旋涂是特别是厚胶的旋涂和方形衬底匀胶时，会在衬底的边缘形成胶厚的光刻胶边即是所谓的边胶，即光刻胶的边缘突起，在使用接触式光刻的情况下是有问题的:
由于边缘光刻胶的溶剂残留量高，即使在前烘后，掩膜板也会粘附在光刻胶膜上，会污染掩膜板。在曝光过程中，边珠还会在光刻胶膜和掩膜板之间充当不必要的间隙，这通常会导致光刻胶曝光的图案分辨率低、尺寸误差大或显影后图案的侧壁不陡直等。
消除“边胶”的措施
如果无法通过自动化设备完成去边角工艺（EBR）的话，以通过以下措施帮助减少/消除边胶:
- 尽可能使用圆形基底:使用配套EBR溶剂，利用一个带有细喷嘴的洗瓶，在500 rpm左右动态去除边胶；
- 使用一种以足够高的旋转速度(3000-4000rpm/min)达到目标膜厚的胶膜；
- 对于非常厚的光刻胶：利用较高的加速度，在短时间内获得较高的旋转速度 ；
- 当光刻胶层已经足够干燥，但边胶仍然有足够的液体时，在旋涂工艺末端突然增加旋转速度使边胶脱离；
- 胶层与前烘之间的等待时间取决于抗蚀涂层的厚度和残留溶剂的含量，以防止在高前烘温度下胶层的粘度突然升高而增加边胶效应(可使用分步干燥: 室温->50°C->95°C)；
- 调整良好旋涂腔室保证衬底与衬底托盘之间紧密接触；
- 非圆形衬底: 如有可能的话，可将衬底边缘片与边缘珠一起裁切掉，或用洁净间的刷子将边胶刷洗掉。
除此之外，多次旋涂也是导致边胶的重要原因之一，这种情况下，在前次涂胶完成后，烘烤有助于防止在下次涂胶过程中光刻胶再次溶解，从而减小边胶效应。
如果您在光刻涂胶过过程中也有遇到边胶问题，欢迎您在下方留言分享您的处理经验！ 了解更多光刻及光刻胶知识库，欢迎关注Litho+wiki，获取更多信息……
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