概述 PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)和Copolymer(共聚物,如MMA或者MMA和MA的共聚物)是 […]
nLOF用于电子束负胶
概述 AZ® nLOF™ 2000 是一种来自默克的 PGMEA 溶剂型光刻胶。它比 HSQ 更敏感 […]
电子束光刻机的分类、现状及发展
随着最近半导体产业的火热,普通老百姓也开始关注起光刻机和光刻胶产业以及我国的光刻机光刻胶的发展情况。目前,活跃在科研和产业界的电子束光刻设备主要是高斯束、变形束和多束电子束3类,其中高斯束设备相对门槛较低,能够灵活曝光任意图形,因此被广泛应用于各大高校和研发机构的基础科学研究中,而变形束和多束电子束光刻设备则主要服务于工业界的掩模制备中。
食人鱼清洁方法
食人鱼溶液用于去除基材上的有机残留物。食人鱼溶液由浓硫酸 (H2SO4 ) 与过氧化氢 (H2O2) […]
掩膜版清洗
光刻掩模版通常被连续用作几乎每个光刻工艺步骤中。在处理晶圆/样品时,掩膜版通常会变脏。由于光刻过程中 […]
电子束灰度光刻实现3D结构的加工
1. 电子束光刻应用背景 众所周知,电子束光刻是获得我们想要的纳米结构的最有效加工方式之一,被广泛应 […]
氢氧化钾湿法刻蚀
KOH是微纳实验室常见的刻蚀液之一,如单晶硅电池表面绒面话处理、硅片表面V型槽刻蚀、金字塔或者倒金字 […]
常用材料湿法刻蚀方案
在微纳米加工技术中,湿法刻蚀也是一种重要的图形转移方式,其特点是选择性好、重复性高、效率高、设备简单 […]
光刻胶的粘度
在光刻胶的各种物性参数中,粘度值也是一个非常重要的参数,它对指导光刻胶的涂胶至为重要,但是我们在阅读 […]
氧等离子去胶机在微纳加工中的应用
去胶机作为微纳米加工的基础设备之一,在微纳米技术及加工中有着丰富的应用场景,本文将针对微纳米加工中常 […]