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随着最近半导体产业的火热，普通老百姓也开始关注起光刻机和光刻胶产业以及我国的光刻机光刻胶的发展情况。目前，活跃在科研和产业界的电子束光刻设备主要是高斯束、变形束和多束电子束3类，其中高斯束设备相对门槛较低，能够灵活曝光任意图形，因此被广泛应用于各大高校和研发机构的基础科学研究中，而变形束和多束电子束光刻设备则主要服务于工业界的掩模制备中。