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中国微米纳米技术学会学术年会暨国际会议 2020

9月18-21日线上进行，2021年举办地任为哈尔滨中国微米纳米技术学会学术年会暨国际会议，是我 […]

干涉光刻又叫全息光刻，是一种特殊的光刻手段，其特点是可以通过简单的设备即可获得百纳米周期性结构。下面 […]

在材料、微电子等研究课题中，制作高品质的电极是准确反映材料或者器件本身性能的前提条件，为此我们需要制 […]

11月5-6日成都近年来，中国集成电路产业蓬勃发展，基于这样的形势，国际先进光刻技术研讨会（In […]

2020年9月26-28日 | 成都微纳光学是当前光学学科发展最活跃的前沿之一，结合了光子学与纳米 […]

2020年会议取消，延期一年举办 2020年9月19~22 | 兰州大学中国物理学会秋季学术会议( […]

2020年6月27-29日 —— 上海新国际博览中心 SEMICON China 2020国际半导体 […]

概述众所周知，光刻胶按照最简单的分类方式可以分为正胶或者负胶，本文就介绍一下紫外光刻胶中的正胶和负 […]

评价一款光刻胶是否适合某种应用需要综合看这款光刻胶的特定性能，这里给出光刻胶一般特性的介绍。 1. […]

把设计掩膜模图形转移到晶圆上需要经过一整套复杂的涂胶、曝光、显影、刻蚀等工艺过程，这一过程大体可以分 […]