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HSQ-超高分辨率电子束负胶

极致分辨率是我们做电子束光刻时常常追求的目标之一，但是极限分辨率的获得不经依赖于高性能的电子束光刻系 […]

在前面“一般光刻过程”文章中我们概要介绍过光刻的一般过程，其中就介绍过前烘（软烘）的相关知识，前烘是 […]

我们在使用光刻胶的时候往往关注的重点是光刻胶的性能，但是有时候我们会忽略光刻胶的保存和寿命问题，其实 […]

薄胶的厚度及其均匀性取决于曝光波长。由于光刻胶通常是在非单色波长或单色光的情况下进行曝光，在光刻胶表 […]

如果要涂覆的衬底的类型或尺寸既不适合旋涂也不适合喷涂，或者对单衬底上消耗光刻胶成本有严格要求的情况下 […]

我们日常使用光刻胶时，匀胶是我们最常用的涂胶方式。我们前面在“一般光刻工艺过程”以及“如何选择合适的 […]

在微纳米加工中，我们最常用的就是光刻工艺，它也是我们获得目标图形最有效的方式之一，其中以光刻为核心的 […]

HF刻蚀后的衬底经过氢氟酸蚀刻SiO2后，光刻胶与衬底的粘附性很大程度上取决于衬底上的氧化物是否被 […]

对于大部分光刻胶与Si衬底而言，其粘附性一般都是不错的，但是在光刻中，通常会用到一些例如蓝宝石、氮化 […]

我们通常购买的衬底往往会伴随着加工运输等环节不可避免的含有其他化学杂质、微粒污染物、吸附的水汽等，这 […]