经过近三十年的发展，半导体芯片制造商现在可以使用新一代ASML的集成电路制造工具。新的生产线采用了最 […]
基于金纳米盘的新技术可以改善诊断
就最小的纳米颗粒成像而言，现有的先进方法存在明显的局限性，这使得科学家们难以在分子水平上研究病毒和其 […]
物理学家发现室温超导
—这一发现为重新构想能源网格，技术，社会打开了大门 日期：2020年10月14日资源：内 […]
适用于5G网络的3D打印：ULTRAWAVE项目
移动版超越台式机 2017年，台式机设备首次被移动数据使用量所取代。自动驾驶汽车，物联网，云技术，4 […]
LIGA-电铸技术概述
我们知道，在微纳米技术的发展中MEMS一直是一个重要的应用方向，MEMS技术在尺度上的特点是横跨1u […]
电子束光刻 – 概述
半导体是近年来国内的热门话题，围绕着半导体最核心的设备和耗材是光刻机和光刻胶。我们经常会听到ASML […]
研究表明使用冰光刻技术的现状和未来前景
纳米制造促进了纳米科学和纳米技术的发展。纳米制造的奠基石之一是电子束光刻（EBL），它涉及制作低至几 […]
微纳结构PDMS倒模应用
PDMS是微纳、材料、生物、微流控领域中很用的材料之一。我们前面介绍过光刻和纳米压印的关系，其中PD […]
Electra 92电子束曝光导电胶
概述 Electra 92是Allresist GmbH公司推出的用于电子束光刻胶（PMMA，ZEP […]
ZEP 520A 高分辨率电子束正胶
概述 ZEP胶是一种苯乙烯甲基丙烯酸酯基的电子束正胶， 因其相比于PMMA具有更好的耐干法刻蚀能力， […]