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光刻技术交流与分享

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Litho+ wiki是一个非盈利网站,主要用于分享光刻及使用光刻胶的基本知识,我们致力于汇集光刻技术及光刻胶使用方面的专业信息,帮助从事相关行业的老师及技术人员能够简单、快速获取相关内容,并为大家创建一个可以分享交流的平台。

我们欢迎更多光刻从业者加入我们,丰富我们的内容,为更多的用户带来新颖的技术手段和使用心得。

标签云

3D微纳结构 DOE lift-off LIGA lor t-gate undercut 充电效应 光引发剂 再吸水 分辨率 刻蚀 剂量 剥离 匀胶 厚胶 去胶 去胶机 图形反转胶 坚膜 增附 对比度 导电胶 干涉光刻 底切 微纳光学 打底胶 旋涂 无污染 束斑 束流 正胶 气泡 灰度光刻 灵敏度 热回流 电子束光刻 电子束光刻胶 粘度 纳米压印 绝缘衬底 蒸发镀膜 负胶 选择比 高分辨率

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