光刻实验室基本设备有哪些？

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构成光刻实验室中最基本的设备包括以下几个：
1. 匀胶机：涂胶，使得光刻胶形成特定厚度的胶膜；
2. 热板或者烘箱：通过加热使得旋涂成膜后的光刻胶膜成分干燥；
3. 光刻设备（核心）：接触式紫外光刻机、激光直写、电子束曝光系统、步进投影式光刻机等；
4. 显影设备：可以采用简单的浸没式显影方式也可借助设备实现喷淋或者搅拌式显影；
5. 去胶：干法去胶机或者采用湿法去胶
6. 图形转移设备：镀膜设备（蒸发）或者刻蚀设备等。
上述所列为最基本的设备列表，光刻只是一种图形获得方式，完整的光刻实验室还有很多环境保障、检测等配套的设备……