如何理解光刻胶旋涂的厚度和曝光时间之间的关系,另外二次曝光的目的是什么?各位大神,帮忙解释一下
曝光时间是确定曝光剂量,厚度会影响曝光剂量的,新的光刻胶厚度需要重新摸索曝光剂量的,这里的二次曝光所指不明,我理解为第二次曝光,这里有可能是图形反转胶的泛曝光,或者是紫外辐照坚膜过程。
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