掩模板如果用剥离工艺应该采用负性光刻胶，而加工平台多台仪器上支持的光刻胶为AZ系列的，AZ系列的光刻胶是否都为正胶？是不是都没有负胶？除了SU8外没有其他的负性光刻胶了吗？
除了su-8之外的负胶是有的，看你需求是什么样子，需求什么样的性能可以通过改性来达到你的目的。如果有这方面的需求可以联系我。谢谢
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