前烘过程对光刻过程有没有影响，如灵敏度和曝光剂量？
有的，前烘对光刻胶的影响主要体现在以下两个方面：1、没有烘透光的胶会污染掩膜板，残留溶剂会有气泡产生的风险，光刻胶与衬底粘附性差，暗腐蚀更大；2.过烘（烘烤时间过长或者温度过高），光敏物质有可能被破，灵敏度降低，需要的曝光剂量会更高。
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