前烘过程对光刻过程有没有影响,如灵敏度和曝光剂量?
有的,前烘对光刻胶的影响主要体现在以下两个方面:1、没有烘透光的胶会污染掩膜板,残留溶剂会有气泡产生的风险,光刻胶与衬底粘附性差,暗腐蚀更大;2.过烘(烘烤时间过长或者温度过高),光敏物质有可能被破,灵敏度降低,需要的曝光剂量会更高。
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