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是的,紫外光刻和电子束光刻都有双层剥离的搭配方案,但是两者却有点不同,我们逐一介绍:
1.紫外光刻胶的双层搭配,一般会用到LOR(也叫LOL)胶,这种胶本身是不含光敏物质的,所以对紫外光不敏感,只是单纯的随时间延长溶解于显影液中,上层胶是正常的紫外正胶或者负胶,利用上层胶在显影液中显影出结构后露出下层胶,随着时间的延长,下层胶越来越宽,从而形成undercut结构,并不是两种胶的灵敏度差异或者显影速度差异。
但是需要注意,上层胶的选择需要其显影液与下层胶匹配,另外需要比较严格控制显影时间,否则很容导致结构坍塌;
2.电子束胶的搭配有两种,一种是与紫外胶类似,下层胶选择不含光敏的胶,不同的地方是上层胶用显影液对下层胶无反应,下层胶的显影需要用其自身的显影液(如TMAH显影液),与紫外胶搭配类似,上下层胶显影液应对另一层胶无影响,需要严格控制显影时间;
另一种,是两种不同灵敏度的电子束胶搭配,高灵敏度电子束胶至于底层,一次曝光或者不同区域不同曝光剂量导致显影时形成不同的宽度,这种方案中线宽的差异随时间变化不明显。
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