聚酰亚胺紫外负胶,可曝光显影,应用于应力缓冲/钝化层
Litho+ wiki是一个非盈利网站,主要用于分享光刻及使用光刻胶的基本知识,我们致力于汇集光刻技术及光刻胶使用方面的专业信息,帮助从事相关行业的老师及技术人员能够简单、快速获取相关内容,并为大家创建一个可以分享交流的平台。
我们欢迎更多光刻从业者加入我们,丰富我们的内容,为更多的用户带来新颖的技术手段和使用心得。
您可通过发送邮件到prlibteam@163.com与我们联系,并给我提出您的建议和意见!
您可以通过我们Support子站免费获得以下服务:1.寻找光刻胶产品技术资料,安全信息,应用报告;2.提交您在光刻过程中遇到的工艺问题;3.分享您在光刻工作中的心得和富有创意性的成果!
欢迎您登陆我们的sup.prlib.cn,并给我们提出您宝贵的建议!