Litho wiki
  • 首页
  • 知识库
  • 论坛
  • 新闻&会议
    • 会议
    • 新闻
  • FAQs
  • 登录
AR-BR 5400剥离胶底胶 lift-off
Home >

AR-BR 5400剥离胶底胶

  • Posted 19 5月 2020
  • By 管理员
  • Under

剥离胶底胶、LOR、LOL   提取码：r3az 型号：AR-BR 5460、 AR-BR 5480 […]

AR-P 5300 系列紫外单层lift-off胶

  • Posted 16 5月 2020
  • By 管理员
  • Under

单层紫外lift-off光刻胶  提取码：gt4z 点击数：75

AR-P 3740/3840 高分辨率紫外正胶

  • Posted 14 5月 2020
  • By AR
  • Under

高分辨率电子束正胶

联系我们

如果您有任何建议，请通过以下联系方式联系我：

  • 邮 箱：AZ9128@office365svip.tw

近期文章

  • 纳米压印光刻技术在半导体制造中的兴起
  • 新型原子级光滑硅金字塔表现出非同寻常的磁性特征
  • 石墨烯基混合材料可实现不可见光的高效光转换
  • 研究人员使用基于金刚石的量子系统来控制纳米金刚石
  • ASML的尖端EUV光刻技术将晶体管缩小至5 nm

相关文章

  • Litho+wiki 光刻,光刻胶胶知识库
  • Social – 找回密码
  • Social – 注册
  • Social – 登录
  • WP File download search
  • 下载
  • 关于
  • 隐私政策

关于我们

Litho+ wiki是一个非盈利网站，主要用于分享光刻及使用光刻胶的基本知识，我们致力于汇集光刻技术及光刻胶使用方面的专业信息，帮助从事相关行业的老师及技术人员能够简单、快速获取相关内容，并为大家创建一个可以分享交流的平台。

我们欢迎更多光刻从业者加入我们，丰富我们的内容，为更多的用户带来新颖的技术手段和使用心得。

标签云

3D微纳结构 DOE lift-off LIGA lor t-gate undercut 充电效应 光引发剂 再吸水 分辨率 刻蚀 剂量 剥离 匀胶 厚胶 去胶 去胶机 图形反转胶 坚膜 增附 对比度 导电胶 干涉光刻 底切 微纳光学 打底胶 旋涂 无污染 束斑 束流 正胶 气泡 灰度光刻 灵敏度 热回流 电子束光刻 电子束光刻胶 粘度 纳米压印 绝缘衬底 蒸发镀膜 负胶 选择比 高分辨率

快速导航

  • 首页
  • 知识库
  • 论坛
  • 新闻&会议
    • 会议
    • 新闻
  • FAQs
  • 登录

MENU

首页

资料库

FAQs

新闻

论坛

关于

 © 2020版权所有 prlib & litho+wiki 粤ICP备20030389号-1，网站地图 | 友情链接：ALLRESIST | MICROCHEMICALS | MICRORESIST | MICROCHEM | Showa-denko | ZEON | ScienceDaily | AZOnano | AZOmaterials | Semiengineering | i-Micronews | MEMSnet | BYU-cleanroom | CMi-EPFL | UCSB-nanofab | 中文网站：AR_CN