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这个得看怎么刻蚀,如果是干法刻蚀,Al使用干法刻蚀不是很容易,因为需要使用溴气。另外一个问题,紫外胶的显影液大部分都是水溶性碱液哦,会腐蚀铝膜。
in reply to: 光刻胶的厚度和胶下的电极厚度?可以使用普通的紫外光刻胶做3D结构但是得看用什么样的设备,如果是狼牙棒一样的结构,普通接触式光刻机时实现不了的,或者说非常难实现,但是现在的3D打印、双光子技术可以轻松实现
in reply to: 光刻胶技术可不可以做三维结构?如果是显影后再pattern的位置(特别是尖角处)出现裂纹,那么就是由于粘附性不够导致的,可以考虑使用增附剂,例如AR 300-80或者HMDS等
in reply to: 光刻胶曝光后出现裂痕不清楚需要哪种胶,电子束还是紫外,如果是紫外胶,大部分紫外胶的溶剂都是PGMEA,显影液都是水溶性碱液。电子束胶的话,有不同溶剂的胶,特别是PMMA。但是我想您应该是想做多层?
in reply to: 求推荐溶剂不同,显影液相同的两种光刻胶确实,方形片子不容易涂均匀光刻胶,特别在片子尖角处。另外提到片子上本身有结构,这种情况下建议用喷涂而不是旋涂,见本文:https://www.prlib.cn/knowledge-base/%e5%96%b7%e6%b6%82%e5%b7%a5%e8%89%ba-spray-coating
in reply to: 在矩形片上甩光刻胶不均匀如题,这个首先得分析是哪个步骤中产生的,如果是后续工艺中产生的,则可能是气泡的可能性较大,如果是气泡,需要判断气泡产生的原因,参考这个文章:https://www.prlib.cn/knowledge-base/%e6%b0%94%e6%b3%a1%e7%9a%84%e4%ba%a7%e7%94%9f%e5%8f%8a%e6%b6%88%e9%99%a4%e6%8e%aa%e6%96%bd。正常涂胶的结果是片子表面薄膜平整,无杂质,无其他颜色
in reply to: 光刻胶上面的杂点是什么东西这个工艺可能会有点问题,光刻可以实现这种图形,没问题,但是磁控溅射后的薄膜很难lift-off,再者,2um的膜厚是需要镀挺久的,热效应也可能会导致剥离失败的。如果条件允许,可以考虑LIGA工艺
in reply to: Lift-off光刻胶问题电子束光刻胶的种类不多,常见的正胶就是PMMA,性能好、性价比高。其他的电子束正胶有ZEP 520以及德国allresist 的AR-P 6200,这两个胶性能;类似,灵敏度略高于PMMA。如果需要更高的灵敏度电子束光刻胶产品,那就得考虑micro Chem和Allresist的聚合物产品,除灵敏度高于PMMA外,其他性能和PMMA类似。还有allresist 正在开发的SX AR-P 7200系列,电子束正胶,主打高灵敏度和水溶性碱显影。由于显影液等都会决定灵敏度,所以,无法给您具体参考值
in reply to: 光刻胶(电子束抗蚀剂)这个工艺有点问题:1. 5214不能承受这么高为温度,光刻胶会变型的,导致形态无法满足lift-off需要;2. 这么高的温度下,光刻胶相当于又经过了烘烤,导致光刻胶稳定性提高,lift-off变的更加困难;3. 磁控溅射不适合lift-off工艺。所以,有可能的话,修改镀膜方式为蒸发镀膜,如果厚度很厚的话,建议使用间歇镀膜的方式,防止温度过高导致光刻胶变形。
in reply to: AZ5214光刻胶能耐200度温度吗