管理员的回复

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有的，前烘对光刻胶的影响主要体现在以下两个方面：1、没有烘透光的胶会污染掩膜板，残留溶剂会有气泡产生的风险，光刻胶与衬底粘附性差，暗腐蚀更大；2.过烘（烘烤时间过长或者温度过高），光敏物质有可能被破，灵敏度降低，需要的曝光剂量会更高。

[管理员]

不能的，虽然早期的产品资料中介绍的热稳定性能达到250℃，但是其工艺温度一般为120℃上线。

[管理员]

这个得看怎么刻蚀，如果是干法刻蚀，Al使用干法刻蚀不是很容易，因为需要使用溴气。另外一个问题，紫外胶的显影液大部分都是水溶性碱液哦，会腐蚀铝膜。

[管理员]

可以使用普通的紫外光刻胶做3D结构但是得看用什么样的设备，如果是狼牙棒一样的结构，普通接触式光刻机时实现不了的，或者说非常难实现，但是现在的3D打印、双光子技术可以轻松实现

[管理员]

温度的嫌疑很大，建议间歇镀膜，进一步控制温度

[管理员]

紫外胶绝大部分是水溶性的碱液，可以是NaOH、KOH或者TMAH等，可以跟厂商要相关资料，一查便知，但是不会有具体的配方。

[管理员]

如果是显影后再pattern的位置（特别是尖角处）出现裂纹，那么就是由于粘附性不够导致的，可以考虑使用增附剂，例如AR 300-80或者HMDS等

[管理员]

不清楚需要哪种胶，电子束还是紫外，如果是紫外胶，大部分紫外胶的溶剂都是PGMEA，显影液都是水溶性碱液。电子束胶的话，有不同溶剂的胶，特别是PMMA。但是我想您应该是想做多层？

[管理员]

确实，方形片子不容易涂均匀光刻胶，特别在片子尖角处。另外提到片子上本身有结构，这种情况下建议用喷涂而不是旋涂，见本文：https://www.prlib.cn/knowledge-base/%e5%96%b7%e6%b6%82%e5%b7%a5%e8%89%ba-spray-coating

[管理员]

如题，这个首先得分析是哪个步骤中产生的，如果是后续工艺中产生的，则可能是气泡的可能性较大，如果是气泡，需要判断气泡产生的原因，参考这个文章：https://www.prlib.cn/knowledge-base/%e6%b0%94%e6%b3%a1%e7%9a%84%e4%ba%a7%e7%94%9f%e5%8f%8a%e6%b6%88%e9%99%a4%e6%8e%aa%e6%96%bd。正常涂胶的结果是片子表面薄膜平整，无杂质，无其他颜色

[管理员]

强溶解性的溶剂都可以试试，前提安全性高的溶剂。比如可以使用DMG、二甲基亚砜、NEP、NMP等

[管理员]

这个工艺可能会有点问题，光刻可以实现这种图形，没问题，但是磁控溅射后的薄膜很难lift-off，再者，2um的膜厚是需要镀挺久的，热效应也可能会导致剥离失败的。如果条件允许，可以考虑LIGA工艺

[管理员]

电子束光刻胶的种类不多，常见的正胶就是PMMA，性能好、性价比高。其他的电子束正胶有ZEP 520以及德国allresist 的AR-P 6200，这两个胶性能；类似，灵敏度略高于PMMA。如果需要更高的灵敏度电子束光刻胶产品，那就得考虑micro Chem和Allresist的聚合物产品，除灵敏度高于PMMA外，其他性能和PMMA类似。还有allresist 正在开发的SX AR-P 7200系列，电子束正胶，主打高灵敏度和水溶性碱显影。由于显影液等都会决定灵敏度，所以，无法给您具体参考值

[管理员]

光刻胶是根据需求来的，并不能在没有任何限制条件下说谁家好，谁家不好！就比如说EUV光刻胶，能做到几纳米，从参数上看非常好了是吧。但是你得有设备和工艺来支撑，否则给你胶，你用接触式光刻机也做不出啥东西，对吧！当前主流的商品化光刻胶确实是以日本为主、另外，美国、韩国、德国、台湾都有一些比较好的品牌。

[管理员]

这个工艺有点问题：1. 5214不能承受这么高为温度，光刻胶会变型的，导致形态无法满足lift-off需要；2. 这么高的温度下，光刻胶相当于又经过了烘烤，导致光刻胶稳定性提高，lift-off变的更加困难；3. 磁控溅射不适合lift-off工艺。所以，有可能的话，修改镀膜方式为蒸发镀膜，如果厚度很厚的话，建议使用间歇镀膜的方式，防止温度过高导致光刻胶变形。