lift-off工艺中“毛刺”的产生和改善措施

如果在沉积过程中,光刻胶侧壁已被金属薄膜覆盖,则剥离只能发生在有限的区域内有效,此时剥离介质设法穿透金属膜(或者其他介质膜)。因此,在lift-off后,类似毛刺状结构保持在衬底上,如下图1所示。

图1 lift-off工艺时毛刺现象的产生

在这种情况下,以下方法可能会有所帮助:

  • 热蒸发相比于溅射在沉积上更具有方向性,从而在光刻胶的侧壁上没有被沉积上薄膜;
  • 在需要使用正胶的情况下,结合直接蒸发,保持光刻胶侧壁的陡直有利于消除毛刺现象;
  • 在使用图形反转或负胶的情况下,通过工艺参数优化获得明显的底切(undercut)形态有助于消除毛刺;
  • 如果光刻胶的特性不是交联型的,则必须注意在镀膜的过程中不发生受热软化变形,导致毛刺的产生;

如果您对剥离过程中毛刺现象的产生和改善措施有任何见解,欢迎您在下方评论区留言。 了解更多光刻及光刻胶知识库,欢迎关注Litho+wiki,获取更多信息……

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