如果在沉积过程中，光刻胶侧壁已被金属薄膜覆盖，则剥离只能发生在有限的区域内有效，此时剥离介质设法穿透金属膜（或者其他介质膜）。因此，在lift-off后，类似毛刺状结构保持在衬底上，如下图1所示。
在这种情况下，以下方法可能会有所帮助:
- 热蒸发相比于溅射在沉积上更具有方向性，从而在光刻胶的侧壁上没有被沉积上薄膜；
- 在需要使用正胶的情况下，结合直接蒸发，保持光刻胶侧壁的陡直有利于消除毛刺现象；
- 在使用图形反转或负胶的情况下，通过工艺参数优化获得明显的底切（undercut）形态有助于消除毛刺；
- 如果光刻胶的特性不是交联型的，则必须注意在镀膜的过程中不发生受热软化变形，导致毛刺的产生；
如果您对剥离过程中毛刺现象的产生和改善措施有任何见解，欢迎您在下方评论区留言。 了解更多光刻及光刻胶知识库，欢迎关注Litho+wiki，获取更多信息……
Visits: 2235
采用双层胶工艺是否可以避免毛刺
能改善，但是您需要评估，双层胶工艺上复杂了，风险成本考虑，单层能接受，还是单层更实用。